第206节 光刻机合作(2 / 2)

真田指得意思,米国企业组成得euv联盟,共同研究下一代光刻机技术,而尼康光刻机在市场占有率第一,却排除这个euv联盟,

光一很刻板,依着研发技术能力,从内心上压根上看不起真田,回击道:“我作为尼康公司的工程师,我只负责技术研发,保证我们尼康公司研发光刻机,是世界上最先进得…”

光一这么一说,就完全惹怒了真田:“既然市尼康公司员工,更应该顾全大局,考量尼康公司的处境!”

正当光一,真田,谁也不服谁,争吵起来时,会长木村就立即制止,沉思道:“众所周知,大深市芯片产业有限公司,是一家创新公司,一直引领着世界电子产品的技术潮流发展,从os工艺f芯片,再到划时代的p3和u盘…。

所以,我认为,现在大深市芯片产业有限公司创始人李飞,发表浸入式光刻机的论文,我们尼康公司,应该从技术上,与李飞进行交流,为我们尼康公司在光刻技术作出储备,是一个不错的选择…。“

木村的态度,让尼康公司研究浸入式光刻机,除了技术,还有借此敲打光一,给一些压力,

而木村相信李飞公开的浸入式光刻机技术,就如同21实际,没人不相信杰克马有100亿

就这样,会长木村同意,尼康公司立即与李飞联系,希望在浸入式光刻机进行技术交流…。

收到尼康公司的邀请,李飞倒是同意,愿意在浸入式光刻机技术合作,并保证,浸入式光刻机绝对是目前最合适的光刻机,

这么一说,尼康公司副社长真田很高兴,要是尼康公司真的时实现了浸入式光刻机,那就是尼康公司的功臣啊,抛弃目前,看不到任何希望的157nf2光刻机…

但是,李飞给出条件,如果要让浸入式光刻机量产,我们必须占有尼康公司股份…,并且,为了防止出现,与东芝公司,日立公司的合约问题,我建议尼康公司,应该与你们的通产省,先商量好…。

说完后,李飞给出时间,必须在一个月内给出回复,否则的话,我会先择与asl合作…。

李飞这么一说,让真田感到很有压力,因为李飞保证浸入式光刻机一定量产…,如果,让这技术让asl掌握了,那岂不是

事情紧急,真田立即把李飞所说的话,转告会长木村,木村一脸质疑地问道:“真田君,这大深市芯片产业有限公司创始人李飞,真的是保证,一定会让浸入式光刻机量产,”

真田认真地点头:“会长,是这样没有错!”

木村决定道:“那好,我马上去约见通产省…。”当然,木村在去见河本时,也思考着如何说服…。

在通产省大臣河本办公室,对于村田的到来,河本立即放下手里工作,在会客区,两人对立坐在沙发上,木村就直接说道:“河本大臣,在电话里不方便讲得事情,就是,在光刻机技术,我们尼康公司,想与大深市芯片产业有限公司合作,研发下一代光刻机技术!”

河本条件反射,拒绝道:”光刻机我们国家重要的技术,这一技术合作,我们通产省,是不容许的…。“

对于河本反应,木村是有准备的,就微笑道:“大臣,大深市芯片产业有限公司提出光刻技术,对我们尼康公司有利,所以,我认为,我们尼康公司应该合作…。“

河本摇摇头,固执道:“这一个不行,必须…。”

木村就直接道:“大臣,你要知道我们尼康公司的处境,现在我们公司被米国打压,被排除euv联盟之外,如果说,这次我们公司再不抓住机会,与大深市芯片产业有限公司合作,那么,一旦,大深市芯片产业有限公司与asl公司合作,到时候,受损的还是尼康公司…”

木村从尼康公司处境如实说出,让河本犹豫了…

见此,木村继续说道:“大臣,我担心,会出现东芝和日立,存储芯片的事情。到时候,我们尼康公司,损失的不是一个10亿美金的存储芯片的订单,而是光刻机产业…”

这么一说,河本脸色惨白,要不是,当时,出一份文件,说不定,现在就是东芝公司,或者日立公司获得大深市芯片产业有限公司存储芯片订单。根本没有这样的事情…。

说到这里,河本就要认真地思考,如果说要是接二连三地出现重大问题,丢失10亿美金订单,以及错失尼康光刻机技术升级时机,那么,河本在通产省的职业生涯,就彻底说再见了,就说道:

“如果对你们尼康公司有利,我们通产省是不阻拦的,”

木村就立即从沙发上站起来。朝河本以90度的鞠躬,感谢道:“感谢大臣的支持!”

河本点点头,然后想到一件事情:“大深市芯片产业有限公司,与你们公司尼康合作,其中,有一个条件,就是与东芝公司,日立公司,达成存储芯片供货协议…。”

木村说道:“大臣,我愿意去试一试…。”

木村在电话与李飞沟通,表示非常愿意…。李飞就直接道:“如果贵贵司,要想使用浸入式光刻机技术,大深市芯片产业有限公司必须占有你们尼康15的股份,”

“15股份?“木村是十分不情愿,李飞就直接说道:”木村会长,我保证,在我的技术支持之下,你们尼康公司在一年后,量产浸入式光刻机,在制程上直接实现45n,甚至是28n以下制程“

这个嘛…。木村还在犹豫…,占有15股份…

李飞直接道:“这样吧,木村会长,你们公司研发的157nf2光刻机,有很多的问题,先别说在成本上,在目前193n光刻机重新设计,而在技术上,有很多问题,例如镜片分辨率,光学技术材料,

同时,李飞还特别低说出,在157n光刻,由于是高能量的光照射,会对掩膜,晶圆,光学投影系统带来严重的损坏…,

李飞这么一说,让木村感到非常震惊。

因为李飞所说的157n光刻问题,就是尼康公司目前所面临的问题,资深研发工程师光一,在每次的会议上,经常抱怨的问题,

所以,李飞说得,差不多是尼康公司光刻机研发机密技术。

与尼康公司会在沟通之前,李飞还直接飞往燕京市,与科技部负责人,在浸入式光刻机技术沟通,希望获得科技部得支持。